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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射制 TiSiN-Ag 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射制 TiSiN-Ag 薄膜
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2023-3-24
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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜
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2023-3-24
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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 Ti-B-C 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 Ti-B-C 薄膜
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2023-3-24
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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜

KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜
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2023-3-24
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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備微晶硅薄膜

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2023-3-20
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KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

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2023-3-20
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KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用
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2023-3-20
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KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用

KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用
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美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用
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2023-3-20
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KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用
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2023-3-16
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