本發明公開一種BOE腐蝕的工藝方法，在光刻工藝的刻蝕過程中，通過將硅片在酸液中上下運動后減少腐蝕過程中依附在硅片上的氣泡量，然后把片架整體提出液面1S，通過壓力的快速變化，使依附在硅片上的氣泡易于破碎，最后再將硅片放入酸液中繼續上下運動，循環腐蝕12min，從而實現對硅片的腐蝕，同時，本發明中是通過BOE腐蝕槽來對硅片進行腐蝕，通過使腐蝕液循環流動，保持在腐蝕過程中內槽內各位置腐蝕液的濃度保持一致，同時，流動的腐蝕液能夠將依附在硅片上的氣泡完全或大部分去除，提升硅片腐蝕的一致性，降低腐蝕過程中生成的氣泡對腐蝕效果的影響。
