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設備名稱： |
半自動顯影清洗機 |
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適應工件： |
2～8寸晶圓片清洗 |
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批量產能： |
8寸25PCS/批 |
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工藝流程： |
QDR←顯影→QDR←顯影→QDR |
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工藝槽功能： |
循環過濾+加熱冷卻+上下抖動+硅片滾動 |
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主要材料： |
金屬骨架+PVC/PPW殼板，槽體采用PPN/PVDF材質 |
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運送方式： |
手動傳送 |
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節拍時間： |
依工藝5～15min可調 |
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其他說明： |
此設備可根據客戶要求定制全自動顯影機 |
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