對抗腐蝕性氣體！愛發科耐高溫涂層真空泵護航ALD工藝穩定性
應用場景
愛發科耐高溫涂層真空泵專為 原子層沉積（ALD）工藝 設計，尤其適配以下嚴苛場景：
1. 高k介質沉積（如HfO?、Al?O?）
- 需耐受Cl?、WF?等強腐蝕前驅體氣體，確保薄膜介電性能一致性。
2. 3D結構填充（如DRAM電容、3D NAND通道孔）
- 在深寬比＞50:1的結構中實現無缺陷保形沉積。
3. EUV光刻膠底層沉積
- 對抗含金屬有機化合物（MO源）的化學侵蝕，保障光刻圖形精度。
產品特點
1.耐腐蝕等離子噴涂涂層
- 采用氮化鋁（AlN）與碳化硅（SiC）復合涂層，耐腐蝕性提升 5倍（對比傳統不銹鋼）。
- 耐受溫度范圍 -50℃至400℃，適配ALD工藝中的快速升降溫循環。
2. 全干式無油設計
- 消除潤滑油與腐蝕性氣體反應風險，避免生成顆粒污染物。
3. 模塊化密封結構
- 快拆式密封法蘭設計，減少維護時氣體泄漏風險（泄漏率＜1×10?? Pa·m3/s）。
4. 智能氣體兼容模式
- 內置傳感器自動識別氣體類型（如NH?、O?），調節泵體轉速與溫度保護閾值。
-核心優勢
優勢維度
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技術表現
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客戶價值
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抗腐蝕壽命
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涂層壽命≥30,000小時
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維護周期延長至 2年，降低40%維護成本
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工藝穩定性
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壓力波動≤±0.5%（連續1000循環）
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薄膜厚度偏差＜0.2nm，良率提升 12%-15%
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能耗效率
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變頻驅動節能模式，功耗降低 25%
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單臺年節電 3.2萬度，ESG評級優化
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兼容性
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支持Ar、N?、H?等吹掃氣體快速切換
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適配多材料ALD工藝，減少設備重復投資
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實證案例
某12英寸邏輯芯片廠ALD工藝升級
- 挑戰：使用WF?沉積鎢柵極時，傳統泵體因腐蝕導致每500小時需停機維護，良率損失8%。
- 解決方案：替換為愛發科耐高溫涂層真空泵，配合 **在線腐蝕監測系統。
- 成果：
- 連續運行 6,000小時無性能衰減，維護成本減少 52%。
- 鎢薄膜電阻率標準差從 4.5%降至 1.2%，芯片性能一致性達標率 99.6%。
愛發科耐高溫涂層真空泵通過三重防護技術（抗腐蝕涂層、無油密封、智能控制），直面ALD工藝中 強腐蝕、高精度、快循環的極限挑戰，成為先進制程的可靠保障：
1. 技術突破：氮化鋁復合涂層將腐蝕速率降低至 0.01μm/年，壽命行業領先。
2.商業價值：單臺設備全生命周期成本降低 35%，助力客戶實現 28個月ROI。
3.未來兼容：預留AIoT接口，支持與工廠MES系統聯動，實現預測性維護升級。
