求購二手真空鍍膜機 PVD蒸發(fā)電鍍機 等離子鍍膜機韓一2700

一，機械用途

用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長波通、短波通和多種電學(xué)薄膜

二，機械優(yōu)點

采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

銷售技術(shù)楊經(jīng)理：181-030-45976

三：特征

真空室尺寸：Φ600-1800mm60點/80點式光學(xué)膜厚監(jiān)控使用均勻分布的高離子電流密度的離子源搭載雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程工件架可選擇鐘罩式或行星式排氣系統(tǒng)可選擇擴散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵規(guī)格設(shè)備名稱

四：規(guī)格

OTFC-1300CBI/DBI真空室SUS304, φ1300mm×1610mm (H)工件架φ1130mm工件架轉(zhuǎn)速10rpm to 50rpm(可變)光學(xué)膜厚控制HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

波長范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式水晶式膜厚計XTC/3+6點式水晶傳感器蒸發(fā)源電子槍2套離子源17cmRF離子源排氣系統(tǒng)機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

五：性能

達到壓力7.0×10-5 Pa 以下排氣時間15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)基板溫度：350℃工作條件設(shè)備尺寸約5000mm(W)×6500mm(D)×3500mm(H)電源3相,200v,50/60Hz, 約104KVA水流量140升/分以上空氣壓力0.5MPa以上重量約8500kg

庫存明細：