產(chǎn)品描述

UV保護膜的特點

1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。

2、照射UV反應(yīng)時間快速，有效提升工作效率。

3、保持晶粒在切割中的完整，（無任何晶粒流失）減少切割中所產(chǎn)生的崩碎。

4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形，水不會滲入晶粒與膠。

   帶之間。

5、具有適當(dāng)?shù)臄U張性。

6、可根據(jù)客戶需求研發(fā)不同制程的UV膜和提供特殊尺寸的產(chǎn)品。

8、卓越的切割性、裝載性。

9、支持低溫的晶圓背面粘貼
產(chǎn)品信息
名稱：防光線泄露保護膜 光學(xué)蝕刻隔絕膜 uv膜阻隔紫外光膜
品牌：邦凱
貨號：bk-68315 顏色： 乳白色/藍色
產(chǎn)品特點
●本產(chǎn)品應(yīng)用在集成電路封裝工藝的硅片切割及后續(xù)運輸工序
●保持晶粒在切割中的完整，（無任何晶粒流失）減少切割中所產(chǎn)生的崩碎
●確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形，水不會滲入晶粒與膠帶之間
●不會有殘膠的現(xiàn)象
●具有適當(dāng)?shù)臄U張性



服務(wù)優(yōu)勢
1) 自主研發(fā)，生產(chǎn)能力強，解決送貨慢、質(zhì)量不穩(wěn)定的問題。
2）具備專業(yè)素質(zhì)的服務(wù)人員，隨時解答您的疑問。
3）所有產(chǎn)品都可以進行模切沖型。可按客戶要求分切任何寬度。



質(zhì)量優(yōu)勢
1）15年的信譽保證，國內(nèi)領(lǐng)先的保護膜制造商。
2）邦凱與國內(nèi)外名企有長期的的業(yè)務(wù)往來，品質(zhì)有保證。
3）廠家生產(chǎn)，保證良好的售后服務(wù)，解決您的任何產(chǎn)品質(zhì)量問題！



價格優(yōu)勢
1）100%的廠家直銷價格，把利潤讓給客戶，我們堅信給客戶優(yōu)惠就是給我們自己機會！與客戶一起做事業(yè)，才能實現(xiàn)共贏！
2）可以提供低粘聚酰亞胺雙面膠免費樣品。

 運輸、儲存過程中的注意事項

1、避光?？梢姽庖材苁鼓z水緩慢固化，因此不可以長時間暴露在空氣中。

2、防潮。吸潮后膠水性能會有所下降，因此不可以長時間打開瓶蓋。

3、常溫。當(dāng)溫度高于80度時，可能引發(fā)化學(xué)反應(yīng)，因而膠水不宜長時間放于高

   溫的地方。我公司專業(yè)代理琳得科ADWILL D系列UV膜，用于玻璃，晶圓，基板，陶瓷片等產(chǎn)品的切割。產(chǎn)品線齊全，價格優(yōu)勢，歡迎來電咨詢。



uv固化晶圓切割保護膜（膠帶）的特點就是在uv固化前有普通保護膜所不能比的超高粘度（可以達到驚人的1500g，2000g gf/25mm）但是在uv紫外線照射之后粘度又可以變成超低粘的15g和20g

還有一個特點就是具有極強的延展性（elongation%）可以達到300 ，600

以上特點使得adtech的晶圓切割保護膠帶



Two types of back grinding tape are available. The "E series" which can be removed without placing stress on the wafer by decreasing adhesion by UV irradiation, and the "P series" which is non-UV type. In addition, there is the "S series" peeling tape.



?D series (UV Curable Dicing Tape)








Product Information


Si Wafer
Base Material:PVC-PO
?High Expandability
?Antistatic
?Anti-chipping
?High Adhesion
?Easy Pick Up


Glass / Ceramics
Base Material:PVC-PET
?Standard


Package Substrate
Base Material:PO
?Standard
?Antistatic


Stealth Dici

4、保持潔凈。在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。

5、忌手碰膠面。使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。

6、忌二次使用。貼錯位置時，請使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。UV膜（UV tape）是專為晶片研磨、切割及軟性電子零件之承載加工之用而設(shè)計。涂布特殊粘膠，具高粘著力,切割時能以超強的粘著力確實粘住晶片即使是小晶片也不會發(fā)生位移或剝除使晶片于研磨、切割過程不脫落、不飛散而能確實的切割。加工結(jié)束后，只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的撿拾而不殘膠脫膠受污染,提高撿晶時的撿拾性,沒有黏著劑沾染所造成的污染,更不會因為照射紫外線而對IC造成不好的影響。



產(chǎn)品特點:
*切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠.
*照射UV反應(yīng)時間快速，有效提升工作效率。


注意事項
一）在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。
二）在太陽光照射下膠帶的粘著力在短時間內(nèi)會下降，所以膠帶保管時，一定要放在遮光袋內(nèi)，放置于陰涼之處。
三）膠帶在使用時，請將環(huán)境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環(huán)境外使用時，會造成接合不良。
四）使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
五）貼錯位置時，請使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。



更多歡迎您的聯(lián)絡(luò)，咨詢了解。

備注：產(chǎn)品可以根據(jù)客戶特殊需要,進行各種厚度和粘性以及防靜電處理,可模切加工。詳細技術(shù)參數(shù)可以向客服人員索取。