CVD爐（SiC膜）氣相沉積爐-西尼特（北京）電爐有限公司

產品價格：	面議/人民幣
最后更新：	2012-11-20 14:17:11
產品產地：	北京
發貨地：	北京 (發貨期：當天內發貨)
供應數量：	不限
有效期：	長期有效
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公司基本資料信息

西尼特（北京）電爐有限公司
龐通先生經理
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產品詳細說明

※產品描述：

CNT公司生產的CVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統，電源，生長機體載體及溫控系統，獨立排氣和生長壓力調節系統，冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。

※技術指標：

參數名稱	單位	配置
沉積類型		碳化硅，氮化硅
電源		射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器
加熱系統		平板式雙反應室系統，帶加溫和勻氣系統
工作溫度	℃	1300~1800℃
基片臺尺寸	(φ×H)mm	1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
基片臺轉速		轉速0-20RPM
控溫精度	℃	±1
極限真空	pa	6.67.0×10-5
密封系統		磁流體密封
水冷、氣路系統		冷卻水循環機、無噪聲氣泵
報警及保護		對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施
真空系統（選配）	真空系列	單級機械泵、擴散泵機組、分子泵
	工作腔體	不銹鋼
	氣氛系統	浮子流量計、進口、國產質量流量計
	記錄裝置	進口、國產無紙記錄儀
備注：西尼特可根據閣下要求提供各種非標產品的設計制造，歡迎來函、來電咨詢！ 24小時熱線：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223 cntdl@sina.com http://www.cimitdl.com

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