L4811-II-2/RZQ雙工位立式真空燒結(jié)爐是為滿足半導(dǎo)體器件和磁性材料行業(yè)的大批量、高生產(chǎn)率的要求而設(shè)計(jì)的一種較先進(jìn)的燒結(jié)設(shè)備，主要用于管芯和管座的燒結(jié)，也可以做擴(kuò)散、退火設(shè)備用。

主要技術(shù)指標(biāo)：

1工作溫度：800℃～1200℃

2單點(diǎn)溫度控制精度：±2℃/24h

3恒溫區(qū)長(zhǎng)度：400mm

4最高升溫功率：22KW

5升溫時(shí)間：≤50分鐘（室溫升至1000℃)

6真空電爐加熱功率：1KW

7設(shè)備總功率：28KW

8真空室尺寸：φ350mm，高600mm

9真空度：3 x 10-3Pa

10抽真空時(shí)間：<1h（注：初始開機(jī)時(shí)間），連續(xù)工作<20min

11主機(jī)尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（長(zhǎng)x寬x高）

12電控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）

13供電電源：三相380V

14主機(jī)重量：2000Kg高溫真空燒結(jié)爐、粉末冶金燒結(jié)爐、真空氣氛燒結(jié)爐、太陽能燒結(jié)爐、微波燒結(jié)爐、燒結(jié)爐 玻璃燒結(jié)爐 高溫?zé)Y(jié)爐 試驗(yàn)燒結(jié)爐 坩堝燒結(jié)爐、熱壓燒結(jié)爐、真空熱壓燒結(jié)爐、超高溫?zé)Y(jié)爐、超高溫反應(yīng)燒結(jié)爐、聚四氟乙稀燒結(jié)爐、立式燒結(jié)爐、臥式真空爐、燒結(jié)爐、陶瓷燒結(jié)爐、鏈?zhǔn)綘t、擴(kuò)散系統(tǒng)、真空擴(kuò)散爐、高溫?cái)U(kuò)散爐、烘焙排臘爐、單管氫氣爐、真空燒結(jié)爐、雙工燒結(jié)爐、陶瓷燒結(jié)爐、馬弗爐、消磁爐、溫度控制系統(tǒng)、熔封爐、縫焊機(jī)、加壓檢漏臺(tái)、壓力機(jī)、時(shí)效爐
立式真空燒結(jié)爐、單、雙管臥式真空燒結(jié)爐、壓力燒結(jié)爐