江蘇半導體表面處理高溫燒結爐真空燒結爐

主要技術指標：

產品名稱：單管臥式真空燒結爐

規格：內φ130㎜×1100mm

最高使用溫度：1200℃

工作溫度：1150℃

真空室等溫區長度：≥400mm

等溫區溫度均勻度：（1150℃）±3℃

單點控制精度：±2℃/24小時

升溫功率：≤16KW

保溫功率：≤8KW

開機重復性：±3℃

冷態真空度：6.3×10-3Pa

爐體移動速度：≥2米/分鐘

爐體定位精度：≤±2毫米

升溫時間：≤60min（加載后至恒溫時間）

降溫時間：≤60min（工件出爐溫度≤100℃）

充氣壓力：≤0.2Mpa

供電方式：三相五線 380V±10% 50Hz

單工作室有效負載重量：≥6kg（指工件及模具重量）高溫單道推板式燒結爐、全自動推板燒結爐、全自動雙推板式燒結爐、網帶式電阻燒結爐、氫氣氮氣推板燒結爐、箱式氣氛保護爐、管式爐、真空碳管爐、真空鉬絲燒結爐、真空箱式電阻爐、真空熱壓爐、真空鎢絲燒結爐、真空干燥箱、高壓真空爐、高壓氣淬真空爐、真空加壓回火爐、高溫真空釬焊爐、真空退火爐、真空熱處理加工爐、高壓氣氛爐、單室臥式高壓高流率氣淬真空爐、單室立式高壓高流率氣淬真空爐、雙室臥式高壓高流率氣淬真空爐、雙室臥式油淬真空爐