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一、CVD真空管式爐概述
真空管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之用。主要用于粉體、電子、陶瓷等其它產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等
二、CVD真空管式爐特點
1、爐膛材料采用進口陶瓷纖維，呈現溫場均衡、表面溫度低、升溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點；
2、電熱元件采用進口高電阻合金絲，表面負荷高，發(fā)熱速度快；
3、爐體兩端采用不銹鋼密封法蘭，耐高溫、耐腐蝕；
4、保護管采用高純石英管 ，氣管采用密封快接插頭，安裝方便；
5、爐體采用雙層空氣隔熱技術，配有自動冷卻風扇，降低爐體外殼溫度；
6、控制系統(tǒng)采用進口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發(fā)、可控硅控制；
三、CVD真空管式爐參數
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項 目 |
指 標 值 |
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額定功率 |
4KW |
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額定電壓 |
AC220V 50/60Hz |
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最高溫度 |
1600℃ |
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額定溫度 |
1500℃ |
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升溫速率 |
≤10 ℃/min |
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爐管尺寸 |
Dia 80 X 1000 mm |
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控溫精度 |
±1℃ |
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控溫方式 |
32段程序 PID程序控溫 （日本進口） |
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熱電偶型號 |
B型 |
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加熱元件 |
硅鉬棒 |
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爐管材料 |
99剛玉 |
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重量 |
約120 Kg |
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爐膛材料 |
氧化鋁多晶體纖維 氧化鋁含量95% （真空成型） 美國進口 |
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爐殼表面溫度 |
≤35 ℃ |
注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規(guī)格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！
