宏盛達新增加研發團隊及無塵車間生產UV膠帶(如晶圓切割膠帶，玻璃切割膠帶等) ,可根據您的制程及產品需要而靈活調整基材(PO PET PVC等)及膠水，我司生產的解UV切割膠帶材料比單一高價的進口材料更勝一籌。

 解UV膠帶是專為晶片研磨、切割、精細電子零件之承載加工和各種材質的微小零件加工切割之用而設計。涂布特殊粘膠，具高粘著力,切割時能以超強的粘著力確實粘住晶片即使是小晶片也不會發生位移或剝除使晶片于研磨、切割過程不脫落、不飛散而能確實的切割。加工結束后，只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的撿拾而不殘膠脫膠受污染,提高撿晶時的撿拾性,沒有黏著劑沾染所造成的污染,更不會因為照射紫外線而對IC造成不好的影響。
特點:
*切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠.
*照射UV反應時間快速，有效提升工作效率。
注意事項
UV膜（UV tape）UV失粘膜，紫外線減粘保護膜，UV減粘保護膜，晶圓切割uv膜是專為晶片研磨、切割及軟性電子零件之承載加工之用而設計。
涂布特殊粘膠，具高粘著力,切割時能以超強的粘著力確實粘住晶片即使是小晶片也不會發生位移或剝除使晶片于研磨、切割過程不脫落、不飛散而能確實的切割。
加工結束后，只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的撿拾而不殘膠脫膠受污染,提高撿晶時的撿拾性,沒有黏著劑沾染所造成的污染,更不會因為照射紫外線而對IC造成不好的影響。

切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。
UV照射前高粘著，貼附性好，UV照射后粘著力明顯下降，易剝離；
照射UV反應時間快速，有效提升工作效率。
耐酸性良好，可以耐20%氫氟酸蝕刻溶液；
再剝離后，對玻璃、硅晶片等各種被貼物無殘膠，低污染。

減粘保護膜應用：
半導體切割，晶圓切割、硅片、封裝基板、PLC板、玻璃/鏡頭/水晶等的切割
適用于ITO玻璃、COVER LENS玻璃蓋板化學強化酸液蝕刻工藝保護；硅晶片切割等制成工序保護；手機金屬殼體CNC加工制程保護。

減粘保護膜注意事項
一）在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。
二）在太陽光照射下膠帶的粘著力在短時間內會下降，所以膠帶保管時，一定要放在遮光袋內，放置于陰涼之處。
三）膠帶在使用時，請將環境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環境外使用時，會造成接合不良。
四）使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
五）貼錯位置時，請使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。





一）在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。
二）在太陽光照射下膠帶的粘著力在短時間內會下降，所以膠帶保管時，一定要放在遮光袋內，放置于陰涼之處。
三）膠帶在使用時，請將環境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環境外使用時，會造成接合不良。
四）使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
五）貼錯位置時，請使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。研發團隊擁有強大研發能力，可為客戶開發新產品，技術領跑 國內產業。