KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積鈦金屬薄膜

鈦金屬具有許多優(yōu)異的性能, 例如低密度/ 高熔點(diǎn)/ 耐腐蝕/ 無(wú)磁性和硅基襯底結(jié)合力好/ 具有形狀記憶和吸氫特性等, 因此對(duì)于磁控濺射沉積鈦薄膜的研究有很多.

上海某大學(xué)研究室在多層鈦膜做微觀結(jié)構(gòu)的研究中采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積鈦薄膜做加熱電路提高器件溫度,從而提高光波導(dǎo)器件中硅材料的折射率.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量

KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

因此, 該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

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