KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復合磁控濺射沉積裝置

某 OEM 系統集成商在搭建系統-復合磁控濺射沉積裝置, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 作為濺射源.

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

該復合磁控濺射沉積裝置主要包含：

1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380

2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000

3. 高功率脈沖磁控濺射電源

4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700

5. 基臺

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有,  翻拷必究!