高分子HNCR脫硝工藝在氧化鎂重燒窯上的應用案例

高分子HNCR脫硝工藝在氧化鎂重燒窯上的應用案例

    1. 脫硝效率高；

    眾所周知，氨系SNCR的脫硝效率一般在40~60%之間，而高分子HNCR脫硝效率可達85%以上。

    2. 工藝簡單，使用方便，空間布置靈活；

    標準化的氣流混合及輸送一體化裝置，不受現有脫硝現場的場地及空間限制，特別適合對SCR脫硝場地有嚴格要求的場合。

    3. 項目一次性投資少

    氣流混合及輸送裝置一體化、系列化和標準化，無需現場施工安裝，一次性投資比SNCR和SCR工藝大大減少。

    4. 脫硝能耗少，使用成本低

    工藝裝置的動力要求很少，一般整套工藝裝置20~30kW的動力配置即可。高分子脫硝劑的用量比和氨系SNCR還原劑的用量相同或者還要低。

    5. 沒有有害副產物，不形成二次污染；

    高分子脫硝劑的反應生成物為N2、CO2和H2O，無其它y機物產生。