KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 用于鋁表面濺射沉積 ZrN 薄膜

河北某大學(xué)研究室為了研究磁控濺射時間和氮?dú)饬髁繉?/span> ZrN 薄膜色度的影響, 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助在鋁表面濺射沉積ZrN 薄膜

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

KRI 離子源的獨(dú)特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.

試驗結(jié)論:

隨著磁控濺射時間的增長, 薄膜的亮度在減少, 黃藍(lán)值在 3 min時出現(xiàn)最大值, 說明鍍膜時間在 3 min 時最接近黃色, 紅綠值波動比較大; 而氮?dú)饬髁吭?/span> 13~18 sccm 內(nèi), 薄膜顏色呈金黃色.

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