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光通信的信息載體是光波, 為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號(hào)的傳輸質(zhì)量, 滿足光通信系統(tǒng)的使用要求, 廣東中山某研究機(jī)構(gòu)采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
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離子源型號(hào) |
RFICP220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
30 cm |
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直徑 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
在該研究項(xiàng)目中, 以 Ta2O5 和 SiO2 作為鍍膜材料, 設(shè)計(jì)了含有 12 個(gè)諧振腔的帶通濾光膜, 分析并解決了耦合層膜厚監(jiān)控的問題.
運(yùn)行結(jié)果:
制備的帶通濾光膜在 1528～1571 nm 處插入損耗小于 0.2 dB, 1470～1521 nm 和 1578～1651 nm 處透射隔離度大于 40 dB, 滿足實(shí)際使用要求.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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