KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層

KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層

武漢某大學(xué)研究中心為了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層,  提高鈦合金表面耐磨耐腐蝕性能, 提高高溫抗氧性能.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

客戶(hù)采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產(chǎn)生離子束不斷轟擊源極靶材和工件, 工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫, 源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面, 經(jīng)沉積擴(kuò)散過(guò)程形成一定厚度的涂層.

運(yùn)行結(jié)果:

1. 具有沉積薄膜速度快, 厚度容易控制等特點(diǎn)

2. 涂層的SEM形貌觀測(cè)顯示涂層均勻, 致密, 無(wú)明顯孔洞缺陷, 涂層厚度約為10um, 過(guò)度層厚度約為3um.

3. 涂層的力學(xué)性能及磨損性能分析顯示, 涂層的臨界載荷達(dá)到81.75N, 遠(yuǎn)遠(yuǎn)滿足工程要求, 涂層與基體結(jié)合良好.

4. 在高溫（500℃）下, TiN的摩擦系數(shù)更穩(wěn)定.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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