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無(wú)錫濺射靶材 徐州鍍膜靶材 常州金屬濺射靶材

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產(chǎn)品價(jià)格: 1/人民幣 
最后更新: 2020-12-24 14:58:42
產(chǎn)品產(chǎn)地: 洛陽(yáng)
發(fā)貨地: 洛陽(yáng) (發(fā)貨期:當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量: 不限
有效期: 長(zhǎng)期有效
最少起訂: 1
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    產(chǎn)品詳細(xì)說(shuō)明

    濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、太陽(yáng)能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。

    主要應(yīng)用

    濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

    分類

    根據(jù)形狀可分為方靶,圓靶,異型靶

    根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

    根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等

    根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電ji靶材、封裝靶材、其他靶材

    磁控濺射原理:在被濺射的靶ji(ji)與陽(yáng)ji之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng),在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar),磁鐵在靶材料表面形成250350高斯的磁場(chǎng),同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶ji發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰ji附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種:支流濺射和射頻濺射,其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

    洛陽(yáng)高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC制造用高純?yōu)R射靶材——高純鉬//鈦等系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。濺射靶材產(chǎn)品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC及光伏太陽(yáng)能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉(zhuǎn)管靶等金屬靶材。此外,公司生產(chǎn)的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應(yīng)用于單晶爐、鋼鐵、醫(yī)療、軍工等行業(yè)。歡迎大家咨詢選購(gòu)。

    洛陽(yáng)高新四豐電子材料有限公司




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