在電子工業中，氯化銦通過電鍍或化學轉化工藝形成的銦鍍層可顯著改善金屬元件的電氣可靠性和抗腐蝕性能：
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可焊性增強：在銅制連接器表面電鍍銦層（厚度約 1-3 μm），可將接觸電阻降低至 5 mΩ 以下，并通過形成 In-Cu 合金層增強焊接界面的結合力，適用于高頻信號傳輸部件。
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抗硫化腐蝕：銦鍍層能有效阻隔含硫氣體（如 H?S）對銀、銅等金屬的侵蝕，延長航空航天設備中精密繼電器和電路板的使用壽命。例如，在鈦合金緊固件表面制備 In-Ni 合金鍍層后，鹽霧腐蝕測試壽命超過 1000 小時，遠超傳統鍍鎳工藝。三氯化銦 分子式:InCl3·4H2O 分子量:293.24 CAS號:22519-64-8
