ABB 1SBH103001R8622

我們的優勢是歐美進口備件配件，所有進口的冷門的停產的或者你們找不到

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美國西門子ITE全系列、EATON電機 斷路器  接觸器 變壓器 、 GE電氣 斷路

器 接觸器 變壓器 、 Cutler-Hammer（卡特拉-漢莫）、艾默生電機、PQ、

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廈門紀揚科技有限公司是一家以工業自動化為主營，融科、工、貿于一體，

專業從*工業自動化工程項目設計、安裝、調試等服務和*銷售各類進口**

電氣及自動化產品的民營高新技術企業。綜合型的工程技術服務型單位，是

國內專業的電氣產品分銷商及工業自動化系統集成商。









主營：世界知名品牌的PLC 、DCS 系統備件 模塊

①Allen-Bradley(美國AB)系列產品》

②Schneider(施耐德電氣)系列產品》

③General electric(通用電氣)系列產品》

④Westinghouse（美國西屋）系列產品》

⑤SIEMENS(西門子系列產品)》

⑥銷售ABB Robots. FANUC Robots、YASKAWA Robots、KUKA Robots、Mitsubishi Robots、OTC Robots、Panasonic Robots、MOTOMAN Robots。

⑦estinghouse（西屋）： OVATION系統、WDPF系統、MAX1000系統備件。

⑧Invensys Foxboro（福克斯波羅）：I/A Series系統，FBM（現場輸入/輸出模塊）順序控制、梯形 邏輯控制、事故追憶處理、數模轉換、輸入/輸出信號處理、數據通信及處理等。Invensys Triconex: 冗余容錯控制系統、基于三重模件冗余（TMR）結構的zui現代化的容錯控制器。

⑨Siemens(西門子)：Siemens MOORE， Siemens Simatic C1，Siemens數控系統等。

⑩Bosch Rexroth（博世力士樂）：Indramat，I/O模塊,PLC控制器,驅動模塊等。

◆Motorola（摩托羅拉）：MVME 162、MVME 167、MVME1772、MVME177等系列。

ABB  1SBH103001R8622

 
 

ACT-8 (2C,2D) Track
* Wafer Size : 150mm
  – Adhesion Treatment on Substrates
  – Photo Resist Coating
  – Development
  – Hard Baking
* Configuration : Single Block
* 1-BARC, 1-COT, 2-DEV
* 1-ADH, 6-LHP, 2-CPL, 4-CHP, 3-TRS, 1-CWH
 

Centura-5200 (SiC, Cr) PVD
* Wafer Size : 150mm
  – 2 Process Chamber system
  – Process : CH#A SiC, CH#B Cr
    (Lid source : Cu Standard body 12.9 Inch)
* MFC:
  CH#A Ar-100sccm, BAr-50sccm, N2 10sccm
  CH#B Ar-100sccm, BAr-50sccm
  DC Power : CH#A & B MDX 10K / Out put10Kw
  RF Generator : CH#A OEM-12B power output 1250Watte, Frequecy 13.56 / CH#B N/A
 

Precision-5000 (SiO2) PECVD
* Wafer Size : 150mm
  – 2 Process Chamber : CH#A SiO2, CH#B SiO2
* MFC :
  CH#A : SiH4-300sccm, N2O-1000sccm, N2-5000sccm, CF4 2000sccm
  CH#B : SiH4-300sccm, N2O-1000sccm, N2-5000sccm, CF4 2000sccm
  CH#A RF generator : ENI OEM-12B
  CH#B RF generator : ENI OEM-12B
  Line Frequency : 50/60 Hz
  Line Voltage : 208V / 250 Amp / 5Wires(R,S,T,N,G)
 

Precision-5000 Mxp+ (Cr, SiO2)Etch + PR-Strip
* Wafer Size : 150mm
* Vacuum Load-Lock / 2-Load Port / 3-Process Chamber System
* Process : CH#A MERIE Oxide, CH#B MERIE Metal, CH#D ASP PR Strip
* Chuck :
  CH#A ESC, CH#B ESC, CH#D Al-Chuck
* Heating :
  CH#A,#B Wall (40’C~60’C), ESC (0~40’C)
  CH#D Halogen Lamp (~300’C)
* RF Generator :
  CH#A ENI/OEM-10B/1250W/13.56MHz
  CH#B ENI/OEM-10B/1250W/13.56MHz
  CH#D Astex/AX2115/1500W/Microwave
* MFC :
  CH#A MFC Ar-200sccm, O2-100sccm, CF4-100sccm, CHF3-100sccm
  CH#B O2-200, Cl2-200
  CH#D O2-5000, N2-200
* Baratron Gauge :
  CH#A 1Torr, CH#B 1Torr, CH#D 100Torr/10Torr
  Turbo Pump : CH#A, CH#B
  Dry Pump : QDP80 (CH#A, CH#B, CH#D, L/L)
 

Vulcan Horizontal Furnace (H2-Aneal)
* Wafer Size : 150mm
* 1System 1Tube Anneal
* Loading Wafer Q’ty : 1~50 wafers (Process wafer) / 1Tube
* Electric Power : 380VAC 3phase 50/60Hz (R,S,T,G)
* Temperature Control Zone : 3Zone Control
* Process Temperature : 400~500℃, ±0.5℃