真空熱處理爐1·10-3 Pa

包括雙層水冷爐殼，電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統(tǒng)，電源和控制柜（如果需要的話，還有脫蠟裝置和氣氛處理裝置）。根據(jù)不同的工藝要求，爐殼材料可以是低碳鋼或不銹鋼。爐體可以是臥式設(shè)計(jì)，也可以是立式設(shè)計(jì)。加熱控制 區(qū)的數(shù)量多可以達(dá)到8個(gè)（或更多），通過調(diào)整這些熱區(qū)的數(shù)量和布局可以獲得較好的均溫性，部分爐型可以優(yōu)于±2°C。

  如果要求較高的均溫性或工藝，如配備脫蠟工藝步驟時(shí)，熱區(qū)內(nèi)就會配有密閉的石墨箱。

  利用大量流動的工藝氣體可以做產(chǎn)品的化學(xué)處理，如石墨制品或CFC制品的高溫化學(xué)純化，工藝氣體可以是N2, Ar, CH4, H2, HCl, R12, R134a等。

  對于抽真空，可以使用大量不同類型的泵組。根據(jù)工藝要求，可以獲得的壓力范圍是0.1 mbar (10 Pa) 到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa)。

  微處理器控制的程序順序可確保工藝的全自動化和可重復(fù)性、以及穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量。計(jì)算機(jī)操作界面和相應(yīng)的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)可以滿足高可靠質(zhì)量控制的要求。

特點(diǎn)：

設(shè)計(jì)溫度 2200°C.

有效體積從 4.5 升 到 13立方米 (可以更大，取決于客戶的要求)

采用獨(dú)立加熱器分區(qū)加熱

在有效空間內(nèi)的均溫性可以達(dá)到±2 K

真空范圍可達(dá)到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa).

用于模壓件和擠壓件的高效脫蠟系統(tǒng)

能在可燃?xì)怏w下安全可靠地操作

整個(gè)工藝全自動操作

通過PC進(jìn)行操作，包括數(shù)據(jù)記錄和數(shù)據(jù)存儲等.