為了獲得具備電磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子輕量化材料, 但 PPS, PEEK 導電性能差、無電磁波屏蔽能力或者達不到理想的屏蔽效果, 因此, 某機構采用磁控濺射鍍膜工藝對 PPS、PEEK 等材料結構件產品表面進行金屬化處理.

其工藝主要分為前處理、鍍膜、后處理等三個環節. 

前處理需要對 PPS/PEEK 待鍍襯底面進行 Hall 離子源清洗, 該機構采用伯東 KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對 PPS/ PEEK 襯底面進行清洗.

KRI 考夫曼 霍爾離子源 Gridless eH 3000 主要技術參數:

其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10^-5 Pa, 經推薦采用伯東經濟型分子泵組 HiCube 30 Eco, 其技術參數如下： 

運用結果：

1. KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對襯底面良好的清洗, 提高了膜層的附著力

2. 經濟型分子泵組 HiCube 30 Eco快速將本底真空抽到 1×10^-5 Pa, 并穩定保持整個過程的真空度

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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