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因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
KRI 考夫曼離子源 KDC 100
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對準柵極, 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.
KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數：
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型號 |
KDC 100 |
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供電 |
DC magnetic confinement |
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- 陰極燈絲 |
2 |
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- 陽極電壓 |
0-100V DC |
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電子束 |
OptiBeam? |
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- 柵極 |
專用, 自對準 |
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-柵極直徑 |
12 cm |
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中和器 |
燈絲 |
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電源控制 |
KSC 1212 |
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配置 |
- |
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- 陰極中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 |
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- 安裝 |
移動或快速法蘭 |
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- 高度 |
9.25' |
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- 直徑 |
7.6' |
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- 離子束 |
聚焦 |
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-加工材料 |
金屬 |
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-工藝氣體 |
惰性 |
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-安裝距離 |
8-36” |
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- 自動控制 |
控制4種氣體 |
* 可選: 可調角度的支架
KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應用領域：
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
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