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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000

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產品價格: /人民幣 
最后更新: 2023-03-15 15:31:31
產品產地: 美國
發貨地: 上海 (發貨期:當天內發貨)
供應數量: 不限
有效期: 長期有效
最少起訂: 1
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    • 伯東企業(上海)有限公司
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    產品詳細說明

    因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

    霍爾離子源 eH 2000

    KRI 霍爾離子源 eH 2000
    上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
    尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
    放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A
    操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
    KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性
    ? 水冷 - 與 eh 1000 對比, 提供更高的離子輸出電流
    ? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
    ? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
    ? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
    ? 等離子轉換和穩定的功率控制
    KRI 霍爾離子源 eH 2000 技術參數

    型號

    eH 2000 / eH 2000L / eH 2000x02/ eH 2000 LEHO

    供電

    DC magnetic confinement

      - 電壓

    40-300V VDC

      - 離子源直徑

    ~ 5 cm

      - 陽極結構

    模塊化

    電源控制

    eHx-30010A

    配置

    -

      - 陰極中和器

    Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

      - 離子束發散角度

    > 45° (hwhm)

      - 陽極

    標準或 Grooved

      - 水冷

    前板水冷

      - 底座

    移動或快接法蘭

      - 高度

    4.0'

      - 直徑

    5.7'

      - 加工材料

    金屬
    電介質
    半導體

      - 工藝氣體

    Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

      - 安裝距離

    16-45”

      - 自動控制

    控制4種氣體

    * 可選: 可調角度的支架; Sidewinder
    KRI 霍爾離子源 eH2000 應用領域
    ?  離子輔助鍍膜 IAD
    ?  預清洗 Load lock preclean
    ?  預清洗 In-situ preclean
    ?  Direct Deposition
    ?  Surface Modification
    ?  Low-energy etching
    ?  III-V Semiconductors
    ?  Polymer Substrates


    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

    若您需要進一步的了解詳細信息或討論,   請參考以下聯絡方式:

    上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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