我公司研發(fā)生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，各款管式爐，氣路系統(tǒng)和真空機(jī)組可多種方式組合，真空泵、閥均采用進(jìn)口產(chǎn)品，性能。控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能，簡單易操作等特點(diǎn)。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。產(chǎn)品特點(diǎn)1.該設(shè)備生長溫度更低2.使用滑軌爐實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫，沉積速率快3.設(shè)備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質(zhì)量好4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器5.支持智能進(jìn)氣，根據(jù)需要設(shè)定不同的溫度，自動(dòng)進(jìn)氣，進(jìn)氣定時(shí)間到后自動(dòng)停止進(jìn)氣6.支持云端數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，隨時(shí)查看數(shù)據(jù)7.支持爐膛移動(dòng)速度調(diào)節(jié)8.支持射頻電源根據(jù)外部工況條件自動(dòng)啟動(dòng)停止9.支持壓力恒定，壓力可以設(shè)定10.支持壓保護(hù)壓力值可以設(shè)定過后系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)入保護(hù)狀態(tài)
