低溫等離子技術(shù)
當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的。有機(jī)化合物最終產(chǎn)物為CO2、CO和H2O。若有機(jī)物是氯代物，則產(chǎn)物應(yīng)加上氯化物，而無(wú)中間副產(chǎn)物。降低了有機(jī)物的毒性，同時(shí)避免了其他方法中的后期處理問(wèn)題。
低溫等離子體主要是由氣體放電產(chǎn)生的，所謂氣體放電是指，通過(guò)某種機(jī)制使一個(gè)或幾個(gè)電子從氣體原子或分子中電離出來(lái)，形成的氣體媒質(zhì)稱為電離氣體，如果電離氣體由外電場(chǎng)產(chǎn)生并形成傳導(dǎo)電流，這種現(xiàn)象稱為氣體放電。放電方式可分為輝光放電（Glowdischarge）、電暈放電（Coronadischarge）、介質(zhì)阻擋放電（Dielectricbarrierdischarge，DBD）、射頻放電（Radiofrequencydischarge）及微波放電（Microwavedischarge）等。輝光放電通常在低氣壓下進(jìn)行，所需的放電電壓較低、電子的能量也較低；電暈放電可在常壓下進(jìn)行，但能量過(guò)于集中，很難獲得大體積的等離子體；介質(zhì)阻擋放電則結(jié)合了前兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以在常壓下產(chǎn)生大面積的低溫等離子體；射頻放電和微波放電常用于無(wú)電極放電，可獲得純凈的等離子體。工業(yè)上使用的主要是電暈放電和介質(zhì)阻擋放電（用于廢氣中難降解物質(zhì)的去除）兩種。
低溫等離子體技術(shù)處理有機(jī)廢氣具有以下優(yōu)點(diǎn)：
①能耗低，可在室溫下與催化劑反應(yīng)，無(wú)需加熱；
②使用便利，設(shè)計(jì)時(shí)可以根據(jù)風(fēng)量變化以及現(xiàn)場(chǎng)條件進(jìn)行調(diào)節(jié)；
③不產(chǎn)生放射物；
④尤其適于處理有氣味及低濃度大風(fēng)量的氣體。
缺點(diǎn)：
①對(duì)水蒸氣比較敏感，當(dāng)水蒸氣含量高于5％時(shí)處理效率及效果將受到影響；
②初始設(shè)備投資較高。
