|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
它由紅外導入主體，多端口真空室，溫度控制器等組成，可以在超真空下以超高速升高樣品的溫度。
由于端口很多，因此可以用于各種實驗。
|
|
|
|
可以進行干凈的加熱，并且可以通過打開和關(guān)閉真空室的前門來取出和取出樣品。
|
|
|
[應用]-
在真空/氣體氣氛中連續(xù)控制樣品的溫度上升/
下降-樣品表面加熱和背面冷卻的快速上升
/ 下降測試（可選）-在加壓氣氛中加熱（可選）
|
|
|
|
型號名稱
|
GV1
|
GV2
|
|
紅外燈額定值
|
1千瓦
|
2千瓦
|
|
最高溫度
|
1300℃
|
1500℃
|
|
受熱面
|
?Φ20毫米
|
|
最大加熱速度
|
100-150℃/秒
|
|
最大極限真空
|
5×10 -5帕
|
|
冷水量
|
1升/分鐘
|
2升/分鐘
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
它由紅外線引入加熱裝置，小型真空室，溫度測量樣本單元，恒定值溫度控制器等組成。
|
|
|
通過用來自底表面的紅外線在真空室中照射樣品，可以進行樣品的清潔加熱和快速退火。
您可以從反應室頂部的觀察窗觀察并觀察溫度升高期間的樣品。
|
|
|
|
型號名稱
|
RTA198
|
RTA298
|
|
紅外燈額定值
|
1千瓦
|
2千瓦
|
|
最高溫度
|
900-1000℃
|
1000-1300℃
|
|
受熱面
|
?Φ20毫米
|
|
最大極限真空
|
5×10 -3帕
|
5×10 -5帕
|
|
冷水量
|
1升/分鐘
|
2升/分鐘
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
它由超高真空型紅外引入加熱裝置，超高真空室，質(zhì)量分析儀，電源/安全電路單元和真空排氣裝置組成，可以分析從高溫樣品中產(chǎn)生的痕量氣體。 ..
|
|
|
|
紅外線導入加熱裝置在真空室內(nèi)具有熱源，不產(chǎn)生氣體，可以進行干凈的加熱，可以進行高精度的分析。
|
|
|
|
型號名稱
|
GV2H
|
|
紅外燈額定值
|
2千瓦
|
|
最高溫度
|
1500℃
|
|
受熱面
|
φ15毫米
|
|
最大極限真空
|
5×10 -6帕
|
|
目的地
|
京都大學
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
它也是磁場中樣品熱處理的理想選擇。
[特點]-
清潔加熱，不會因電磁感應而影響樣品，因為它被光加熱-
只能精確加熱樣品，不加熱磁體。
|
|
|
還可以在真空或氣體氣氛中在磁場中升高溫度。
它可以連接到各種電磁體和超導磁體。
|
|
|
加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
在樣品溫度為1000°C時，孔內(nèi)壁溫度為40°C或更低。
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
在高真空的X射線照射過程中，樣品被加熱到超高溫。
（紅外線是從左上和右下對角線方向發(fā)出的，而線X是從左上和水平方向上發(fā)出的。）
|
|
|
|
真空室安裝在XY工作臺，旋轉(zhuǎn)工作臺和旋轉(zhuǎn)工作臺上，可以在加熱，保持或降低樣品的同時從任何角度進行晶體結(jié)構(gòu)分析。
|
|
|
|
型號名稱
|
GVL298-2S
|
|
紅外燈額定值
|
2千瓦x 2
|
|
最高溫度
|
1500℃
|
|
受熱面
|
φ20毫米
|
|
最大極限真空
|
5×10 -4帕
|
|
|
|
|
交貨地點：Spring-8
|
|
|
|
|
|
|
|
|
許多紅外線引入加熱設(shè)備與各種分析儀結(jié)合使用。
|
|
|
|
|
這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
樣品的溫度通過紅外輻射升高，并且樣品中所含的水和氣體被去除和清潔。
通過超高真空中的傳輸桿將樣品移至照片右側(cè)的XPS分析室，然后施加X射線進行表面分析。
|
|
|
|
