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廢氣凈化塔的適用范圍:
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產等行業及領域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進入凈化塔。在風扇的動態作用下,它快速地填充進氣段的空間,然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面,氣相中的酸性(或堿性)物質與液相中的堿性(或酸性)物質發生反應,反應物(主要是可溶性酸(堿)與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性(或堿性)氣體繼續上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產等行業和領域。
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當有機廢氣的流量大、濃度低、溫度低,采用催化燃燒需耗大量燃料時,可先采用吸附將有機廢氣吸附于吸附劑上進行濃縮,然后通過熱空氣吹掃,使有機廢氣脫附出來成為濃縮了的高濃度有機廢氣(可濃縮10倍以上),再進行催化燃燒。 2、吸收法A、高錳酸溶液吸收法-適用于儀表電器廠的含蒸汽;B、次溶液吸收法-適用于處理法氯堿廠含;C、-軟錳礦吸收法-適用于處理煉尾氣以及含蒸汽;D、氨液吸收法適用于生產廢氣的凈。 設備安全節能:溫度壓力實時;斷電斷氣應急保護;長短期和季節等多停車模式;確保系統安全節能。②材料核心:不燃的無機硅酸鹽為吸附材料,杜絕著火隱患;眾明環保優選的吸附材料壽命長(5-10Y);結構強度大,耐水性好;微孔分布豐富,孔道均勻,吸附效率高。
活性炭纖維過濾層、用于過濾粉塵及部分VOCs氣體光催化氧化具有以下特點:一、低溫深度反應:光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體氧化成無害的物質,適合處理高濃度、氣量大、性強的有有害氣體的廢氣處理。 1、石膏法的工藝流程圖2、化學反應方程式如下Ca(OH)2+SO2=CaSO3+H2O2CaSO3+O2=2CaSO4CaSO3+1/2H2O=CaSO31/2H20CaSO4+2H2O=CaSO42H2OCaSO31/2H20+O2+2H2O=2CaSO42H2ONO+NO2+H2O+O2=2HNO3Ca(OH)2+2HNO3=Ca(NO3)2+H2O六、回收化肥法(氨-亞銨法)適用范圍適用于各種規格的燃?。 如生產商工藝投料失誤,生產線溫度或壓力參數異常等均要有應急控制和措施。尤其在化工行業,這個問題尤為重要。所以,選擇有豐顯得尤為重要。1、廢氣通常是易燃易爆、有有害氣體,在設計中安全要素為原則。 催化燃燒原理:催化燃燒是借助催化劑在低溫(200~400℃)下,實現對的氧化,其實質是活性氧參與的深度氧化作用。在催化燃燒過程中,催化劑的作用是降低活化能,同時催化劑表有吸附作用,使反應物分子富集于表面了反應速率,加快了反應的進行。