英國知名品牌磁控離子濺射鍍膜儀是一款優化設計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設備, 真空度可達5x10-5mbar. 可以濺射具有超細成膜顆粒的易氧化金屬, 適用于高分辨率成像. 同樣地, 低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜.

伯東 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80 應用于磁控離子濺射鍍膜儀

上海伯東德國普發 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80優點：

1.抽速可達到 71 l/s 高性能渦輪分子泵.

2.真空泵 HiPace 80 對所有氣體的高抽速和極高壓縮比使其廣泛應用于真空行業.

3.集成驅動電路, 適用于工業環境.

4.通過保護等級 IP54, 半導體 S2, UL / CSA 認證.

5.通過控制器監控運算數據保證分子泵的最高安全性. 

6.渦輪分子泵 HiPace 80 可以任意位置安裝.

7.自然風冷.

8.多種配件可選滿足廣泛應用.

與友廠對比,上海伯東德國 Pfeiffer 復合軸承分子泵 HiPace 系列,對小分子氣體擁有更高的抽速和更大壓縮比.

上海伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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