伯東 KRI Gridded 考夫曼離子源成功應(yīng)用于離子束拋光工藝

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國(guó)考夫曼公司) 大中國(guó)區(qū)總代理. 美國(guó)考夫曼公司Gridded Ion Sources (考夫曼柵極離子源), KDC (直流電源式考夫曼離子源) 已成功被應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī) (IBF Optical coating) 及晶體硅片離子束拋光機(jī) (IBF Clrystalline)工藝. 考夫曼公司離子源可變離子的強(qiáng)度及濃度, 控制拋光刻蝕速率更準(zhǔn)確使在拋光后的基材上獲得更平坦均勻性高的薄膜表面. 內(nèi)置型的設(shè)計(jì)更符合離子源于離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行.

實(shí)際案例一:

1.    基材: 100mm 光學(xué)鏡片.

2.    離子源條件: Vb:800V(離子束電壓), Ib:84mA(離子束電流), Va:-160V(離子束加速電壓), Ar gas(氬氣).

3.    離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖          離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖            

實(shí)際案例二:

1.    基材: 300mm晶體硅片

2.    離子源條件: Vb:1000V(離子束電壓), Ib:69mA(離子束電流), Va:-200V(離子束加速電壓) Ar gas(氬氣).

3.    離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖          離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖

實(shí)際安裝案例一:

KDC10 使用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī)

實(shí)際安裝案例二:

KDC40 使用于晶體硅片離子束拋光機(jī)

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