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設(shè)備主要用于太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕，適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、金、銀、碳粉等導(dǎo)電金屬、氧化物材料激光刻蝕，同時(shí)可針對(duì)白玻璃基底激光劃線。設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)尺寸1200*600mm，同時(shí)預(yù)留出小面積300*300mm內(nèi)的小幅面加工需求。
設(shè)備簡介
設(shè)備采用固體激光器，激光波長1030nm，適合對(duì)導(dǎo)電玻璃與鍍層進(jìn)行精細(xì)刻線；采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導(dǎo)入CAD 數(shù)據(jù)進(jìn)行激光刻蝕，操作簡單，方便快捷；通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)振鏡與直線電機(jī)、電動(dòng)升降工作臺(tái)的設(shè)計(jì)，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕機(jī)在加工運(yùn)行中的平穩(wěn)性；采用獨(dú)特除塵系統(tǒng)設(shè)計(jì)，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過程中無殘留。
設(shè)備集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機(jī)電高技術(shù)于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征。可大范圍內(nèi)進(jìn)行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產(chǎn)能，是一個(gè)可靠、穩(wěn)定和具有高性能價(jià)格比的產(chǎn)品。
適用材料
玻璃基底上薄膜激光刻蝕，觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃、其它顯示屏。可用于導(dǎo)電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、碳粉、金、銀等導(dǎo)電金屬、氧化物材料處理。同時(shí)，可加工白玻璃激光劃線應(yīng)用，最小線寬小于10微米。
整體說明
主要構(gòu)成：激光器、光路系統(tǒng)、工作臺(tái)、控制系統(tǒng)、 定位系統(tǒng)、 抽塵系統(tǒng)、 真吸附空系統(tǒng)等組成。
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型號(hào) |
ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機(jī) |
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激光器 |
飛秒、皮秒激光器，波長1030nm/532nm |
納秒激光器，波長1064nm |
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加工幅面 |
1200*600mm（可定制小幅面或更大加工幅面，已預(yù)留小面積300*300mm加工幅面） |
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聚焦光斑 |
＜10μm |
＜20μm |
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激光器頻率調(diào)節(jié)范圍 |
20-5000KHz |
100-500KHz |
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刻蝕最小線寬 |
＜10 um |
＜20μm |
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（最大可以去除95%以上的氧化物鍍層） |
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整機(jī)精度 |
±15μm |
±20μm |
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最小線間距 |
＜10μm |
＜20μm |
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工作臺(tái)定位精度 |
±2um |
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工作臺(tái)重復(fù)精度 |
±1um |
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CCD自動(dòng)定位精度 |
±2um |
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刻蝕速度 |
＜4000mm/s |
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設(shè)備尺寸 |
1950mmL×1700mmW×1960mmH |
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設(shè)備重量 |
3500kg |
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功率消耗 |
＜3000W |
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可處理文件格式 |
標(biāo)準(zhǔn)CAD2004版DXF文件 |
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注：根據(jù)實(shí)驗(yàn)室前期實(shí)驗(yàn)性階段需要，武漢元祿光電針對(duì)性開發(fā)出了實(shí)驗(yàn)室階段小型激光刻蝕機(jī)，適用于100*100mm以下導(dǎo)電玻璃激光刻蝕、劃線應(yīng)用，歡迎前來咨詢了解。
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