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伯東 KRI霍爾型離子源EH 5500用于3D玻璃鍍膜

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產(chǎn)品價格: 1/人民幣 
最后更新: 2020-06-12 16:58:11
產(chǎn)品產(chǎn)地: 美國
發(fā)貨地: 本地至全國 (發(fā)貨期:當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量: 不限
有效期: 長期有效
最少起訂: 1
瀏覽次數(shù): 197
詢價  試用會員產(chǎn)品
  • 公司基本資料信息
    • 伯東企業(yè)(上海)有限公司
    • 先生 
    • 會員[試用會員產(chǎn)品]
    • 郵件marketing@hakuto-vacuum.cn
    • 手機(jī)15201951076
    • 電話
    • 傳真
    • 地址上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206
    • 進(jìn)入商鋪
     
    產(chǎn)品詳細(xì)說明

    3D玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳等優(yōu)點(diǎn)可型塑做出 3D 多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計新穎性與質(zhì)感佳又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機(jī)能并能解決天線布置空間不足及增強(qiáng)收訊功能使產(chǎn)品更美觀出色產(chǎn)品設(shè)計差異化使消費(fèi)者更能青睞.

     

    3D玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計需求. 3C 產(chǎn)品設(shè)計如智能3D、智能手表、平板計算機(jī)、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品已經(jīng)明確引導(dǎo)3D 曲面玻璃發(fā)展方向.

     

    3D 玻璃鍍膜不僅可以使玻璃蓋板、背板更漂亮還能起到抗氧化、耐酸堿、抗紫外線的作用所以說, 3D玻璃鍍膜在如今看臉的時代是十分必要的!然而玻璃鍍膜也絕非一種不同的鍍膜起到不同的作用.

     

    為了保證玻璃鍍膜的質(zhì)量提高生產(chǎn)率經(jīng)過我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機(jī)中實(shí)現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜大大提高了鍍膜質(zhì)量和提高生產(chǎn)率

    KRI 
    考夫曼離子源客戶案例國內(nèi)某知名3D玻璃鍍膜制造商
    1. 離子
    應(yīng)用: 3D玻璃鍍膜.
    2. 
    系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
    3. 
    離子源采用美國KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度均是目前業(yè)界最高等級離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到最高生產(chǎn)效能.
    4. 離子源
    功能通過 KRI EH 5500 霍爾源實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后所生產(chǎn)出的3D 玻璃鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試耐刮測試膜層應(yīng)力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.

    上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點(diǎn):
    1.
    離子濃度高離子能量離子束涵蓋面積廣
    2.
    氣體分子離子轉(zhuǎn)化率高離子束工作穩(wěn)定
    3.
    鍍膜均勻性佳提高鍍膜品質(zhì)
    4.
    模塊化設(shè)計保養(yǎng)快速方便
    5.
    增加薄膜附著性增加光學(xué)膜后折射率
    6.
    全自動控制設(shè)計操作簡易
    7.
    低耗材成本安裝簡易

                       EH 5500 
    離子源本體

                        EH 5500 
    離子源控制器

    上海伯東是美國KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理美國KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密高質(zhì)量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.

    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

    上海伯東羅先生                               臺灣伯東王小姐
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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