北京光刻掩膜板切割和金屬光刻掩膜板加工廠家

華諾激光專(zhuān)業(yè)定做掩膜版  mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來(lái)制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)。

光刻掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門(mén)、科研所喜愛(ài)。

芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實(shí)驗(yàn)室。

電極掩模板是一款精度在10微米以內(nèi)的金屬掩模板，該掩模板的特點(diǎn)是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點(diǎn)于一身，受到廣大院校和研究所好評(píng)。

絕緣層掩膜板屬于金屬掩膜板的一種，它主要用于蒸鍍兩線路層之間絕緣層，其特點(diǎn)為能緊密的貼服在蒸鍍基材上，位置和開(kāi)孔大小精度高，方便重復(fù)定位，使用時(shí)間長(zhǎng)，是需要精度蒸鍍線路廠家和研究院校的明智之選。

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

 掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。