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光學薄膜是改變光學零件表面特征而鍍在光學零件表面上的一層或多層膜. 可以是金屬膜、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合. 光學薄膜是各種先進光電技術(shù)中不可缺少的一部分, 它不僅能改善系統(tǒng)性能, 而且是滿足設(shè)計目標的必要手段, 光學薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學系統(tǒng)的各個方面.它們在國民經(jīng)濟和國防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用, 獲得了科學技術(shù)工作者的日益重視.
光學鍍膜機適合鍍制多種光學膜. 如望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等, 配置不同的蒸發(fā)源及膜厚儀, 可鍍制多種膜系, 對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍, 并可在玻璃表面鍍超硬膜.
伯東KRI 考夫曼霍爾離子源用于光學鍍膜機
在光學鍍膜中, 為了提高折射率（填充密度）、減少波長漂移、減少紅外波段的水氣吸收、增強了膜層的結(jié)合力、耐摩擦能力、機械強度、提高表面光潔度、控制膜層的應(yīng)力、減少膜層的吸收和散射、提高生產(chǎn)效率, 鍍膜廠商會把離子源用于光學鍍膜機上.
離子源類型雖多, 目的卻無非在線清洗, 改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量. 離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強度, 同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善.
某廠商為了提供鍍膜的質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率, 需要在鍍膜機上搭配離子源, 通過溝通了解到客戶的要求及使用環(huán)境, 伯東工程師為客戶推薦KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F, 并幫忙客戶把離子源安裝在1400 mm 蒸鍍鍍膜機, 應(yīng)用于塑料光學鍍膜.
常見蒸鍍機臺與對應(yīng) KRI 霍爾離子源型號：
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蒸鍍機臺尺寸 |
KRI 離子源 |
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~1100mm |
eH1010 |
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1100~1400mm |
eH1010, eH1020 |
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1400~1900mm |
eH1020, eH3000 |
伯東KRI 考夫曼霍爾離子源優(yōu)勢：
1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
2.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無需水冷
4.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
5.KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及聯(lián)機自動化設(shè)計, 提供使用者在操作上更是便利.
6.KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設(shè)計、提供使用者在于基本保養(yǎng)中能夠降低成本及便利性.
KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數(shù):
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Filament Controller |
Discharge controller |
Gas controller |
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17.2A/ 22V |
150V/ 4.85A |
Ar/ 32sccm |
利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜質(zhì)量之比較：
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KRI EH1020 輔助鍍膜 |
無 Ion Source 輔助鍍膜 |
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鹽水煮沸脫膜測試 |
優(yōu) |
劣 |
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破壞性百格脫膜測試 |
優(yōu) |
劣 |
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光學折射設(shè)率 |
高 |
低 |
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膜層致密性 |
優(yōu) |
劣 |
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膜層光學吸收率 |
無 |
有 |
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制程腔體加熱溫度 |
低 |
高 |
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生產(chǎn)成本 |
低 |
高 |
伯東公司主要經(jīng)營產(chǎn)品德國 Pfeiffer渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);氦質(zhì)譜檢漏儀；質(zhì)譜分析儀；真空系統(tǒng), HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI Kaufman 考夫曼離子源（離子槍）
