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MultiPrepTM研磨拋光機
MultiPrepTM 系統(tǒng)適用于高精微(光鏡,SEM,TEM,AFM,etc)樣品的半自動準備加工。主要性能包括平行拋光,精確角拋光,定址拋光或幾種方式結合拋光。它保證良好的重現性,可以解決多用戶使用的矛盾。 MultiPrep 無須手持樣品,保證只有樣品面與研磨劑接觸
TechPrepTM 為MultiPrepTM的定位裝置提供電源。人性化的控制面板設計控制MultiPrep?所有功能。研磨盤轉速范圍(順/逆時針)為5到350PRM。除觸摸開關控制所有功能外,還有數字觸摸鍵盤用于設置研磨盤速度、計時器、擺動與旋轉設置。此系統(tǒng)用水符合冷卻標準;自動滴液給料系統(tǒng)適用研磨懸浮液和潤滑劑。
特點:
※測微計控制樣品的設置。
※精確軸設計保證樣品垂直于研磨盤,使之同時旋轉。
※數字千分表顯示樣品行程,增量1微米(實時)。
※雙軸測微計控制樣品角坐標設置(斜度和擺度),10°幅度, 0.02° 增量。
※6倍速樣品自動擺動。8倍速樣品自動旋轉。
※樣品調整范圍:0
※數字記時器與轉速計。
※凸輪鎖緊鉗無需其他輔助工具,方便用戶重新設置工作夾具。
※符合CE標準。
※美國設計制造。
規(guī)格:
Item |
Descrtption |
15-2000-GI |
MultiPrep™ System, 8", 115 V |
15-2000-GI-230 |
MultiPrep™ System, 8", 230 V |
Includes: #10-1005 8" Aluminum Platen, Splash Ring, Platen Cover, #15-1020 Parallel Polishing Fixture, #15- 1030 Dial Indicator Calibration Kit, Accessory Case, #50- 30076 8" Diamond Lapping Film Assortment Pack, #90- 150-350 8" Red Final C Adhesive Back Polishing Cloth, #180-25015 0.04 Micron Colloidal Silica Suspension, 16 oz. and MultiPrep™ Procedures & Alignment Video CDs |
附件:
10-1005 |
8" ( |
10 |
8" ( |
規(guī)格:
Item |
Descrtption |
15-2000-12 |
MultiPrep™ System, 12", 115 V |
15-2000-12-230 |
MultiPrep™ System, 12", 230 V |
Includes: #10-1010 12" Aluminum Platen, Splash Ring, Platen Cover, #15-1020 Parallel Polishing Fixture, #15-1030 Dial Indicator Calibration Kit, Accessory Case and MultiPrep™ Procedures & Alignment CDs |
附件:
10-1010 |
12" ( |
10 |
12" ( |