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型號:URE-2000/35
簡單介紹:光刻機:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光機, 該型號光刻機創新采用三柔性支點實現高精度自動調平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現自動化控制;采用專利技術積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明;可連續設定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
一.技術特征——非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動型)
和高校教學科研(可靠性好,演示方便)
采用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應和實現均勻照明;
1、采用三爪和球氣浮同時找平,無論大片、小片調平精度均高;
2、具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能;
3、自動分離對準間隙和消除曝光間隙,間隙分離可達500μm;
4、高倍率雙目雙視場顯微鏡和
并提供USB輸出;既滿足高精度對準,又可用于檢測曝光結果,且曝光結果和
方便存儲;
5、電機機構、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力合適且重復性好;
7、曝光波長采用純凈365nm,冷光照明(曝光面能量15mW/cm ,溫度小于30度);
8、對準完成,自動消除曝光間隙,無橫向漂移且可通過監視器觀察;
9、快門可以單獨開啟,也可以數字設定自動倒計時曝光(設定范圍0.1s-9999.9s);
10、采用350W進口(德國)直流汞燈,可調節光的能量密度;
11、汞燈具有高亮度和“待機”兩種方式,即曝光時采用高亮度照明,而不曝光
時采用低亮度的“待機”,從而延長了汞燈壽命。
12、設備外形美觀精制,性能非常可靠;
13、上下片、版十分方便,自動化程度很高,操作簡便。
二.技術參數
1、曝光面積:
2、分辨力:0.8-1µm(膠厚
3、對準精度::±0.8µm
4、掩模樣片整體運動范圍:X:
5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、樣片尺寸直徑Ф
7、厚度
8、照明均勻性:±3%(Ф
9、掩模相對于樣片運動行程: X:±
10、汞燈功率:350W(直流)
11、曝光波長:365nm(進口汞燈)
12、曝光能量密度:15mW/cm 可以根據需要增強或調弱(420nm以上波長小于0.1mW/cm )
13、曝光方式:定時(到計時方式0.1s—9999.9s)
應用領域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等