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(一)特點
1、提供一個光亮的鍍錫層
2、寬闊的電流密度范圍
3、鍍液穩定,容易控制
4、產品鍍后即使經過一段儲存時間,其鍍層仍保持良好的焊接性和抗蝕性能。
5、可用于掛鍍,滾鍍
6、可用于印刷電路板和其他電子產品
(二)鍍液組成及操作條件
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金屬錫 |
15-20g/L |
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硫酸亞錫 |
27-37g/L |
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硫酸(比重1.84) |
30-100mg/L |
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開缸劑(Primary Additive) |
32-35ml/L |
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輔助劑(Corrective) |
1-5ml/L |
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溫度 |
13-30℃ |
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電流密度 |
1-2.5A/dm2 |
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過濾 |
連續 |
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攪拌 |
陰極搖擺 |
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陽極 |
純錫 |
(三)配置鍍液
1、注入3/4的純水于清潔的鍍缸內
2、再不斷的攪拌下,慢慢加入所需的硫酸量
3、待溶液冷卻后,加入硫酸亞錫,并不斷攪拌,使其完全溶解
4、加入純水至鍍槽容量的95%
5、依次加入開缸劑和輔助劑
6、過濾鍍液后便可電鍍
(四)設備
1、搖擺:用陰極機械搖擺,不宜用空氣攪拌
2、過濾:連續過濾,每小時有1-2個循環
3、陽極:99.99%純錫,陽極電流密度不超過2A/dm2
4、陽極袋:陽極外面應套有維尼綸布的陽極袋
5、槽缸:柔鋼缸襯上PVC或橡膠
6、溫控:可用石英,鈦,鉭等熱筆
(五)補充及維護
消耗量
開缸劑 30毫升/1000安培小時
補加劑 250-300毫升/1000安培小時