多硅晶燒結氣氛爐 氣氛真空爐 氫氣還原爐 箱式氣氛爐

一、多硅晶氣氛爐用途

設備用途：高溫氣氛爐是高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測。粉末冶金行業以及義齒加工行業的烘烤、氧化鋯盤預燒結等。根據加熱區大小，進行小試，中試，批量生產。

二 、多硅晶氣氛爐結構

1、爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口。

2、爐膛材料采用優質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50%，加熱元件采用鉬絲。

3、電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。

4、可以通氫氣、氬氣、氮氣等其他氣體，并能預抽真空，真空度可以達到20kPa，氣氛壓力可以達到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國家標準。

三、多硅晶氣氛爐參數

注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！