可提供的砷化鎵系列外延產品如下：

1.?霍爾元件材料-砷化鎵外延片 (Hall Components - GaAs Epi Wafer)：
砷化鎵具有高頻，高溫，噪聲小，低溫性能好，抗輻射能力強等特點。因而，基于砷化鎵材料制造的霍爾元件具有更高的穩定性和可靠性.

2.?異質結雙極晶體管AlGaAs、InGaP/GaAs、InP/InGaAs外延片 (HBT AlGaAs, InGaP/GaAs, InP/InGaAs Epitaxial Wafer)：
AlGaAs/GaAs異質結外延片具有良好的晶格匹配，容易實現微波與光電器件及其IC；
InP/InGaAs異質結外延片的晶格能匹配，其中InGaAs具有很高的電子遷移率；
InGaP/GaAs異質結外延片不易氧化，具有較大的價帶不連續性和較小的導帶不連續性，是RF電路設計的首選。

3.?GaAs、InP基雪崩光電二極管外延片 (APD Epiatxial Wafer)：
InGaAs/InP APD外延材料易于生長，具有高量子效率和低暗電流。因而與普通光電二極管相比，基于GaAs/InP外延結構的雪崩光電二極管具有靈敏度高，電流增益大以及頻率響應快等特點。

4.?贗調制摻雜異質結場效應晶體管砷化鎵外延片(pHEMT GaAs Epitaxy)：
基于GaAs 外延材料的贗配高電子遷移率晶體管 ( PHEMT) 因其高電子遷移率、高電流調制效率、低損耗等優異性能，廣泛應用于微波和毫米波等頻段。

5.?635nm~2004nm激光GaAs外延片 (635nm~2004nm Laser Diode Epi Wafer)：
GaAs基激光二極管外延片通過MOCVD反應器生長，用于光纖通信、工業應用、VCSEL、紅外及光電探測器等各個領域：

除上述系列產品外，我們還可生長低溫砷化鎵（LT-GaAs）薄膜用于太赫茲器件制備。

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