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萬(wàn)享供應(yīng)鏈管理（上海）有限公司

Vanhang supply chain management(Shanghai)co.,ltd

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不言而喻，與新設(shè)備相比，二手半導(dǎo)體光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、去膠機(jī)、灰化設(shè)備設(shè)備具備真正的經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì)。而且，如果運(yùn)行在適合的工作環(huán)境下，其性能也不會(huì)降低。但是于客戶而言，卻大大節(jié)約了成本開支。翻新的設(shè)備完全能夠根據(jù)客戶的需求，提供所有選項(xiàng)的配置。

二手生產(chǎn)設(shè)備的主要優(yōu)勢(shì)在于：

1.經(jīng)過(guò)翻新改造的二手設(shè)備性能幾乎可以接近同等技術(shù)水平的原廠新設(shè)備。

2.二手設(shè)備價(jià)格與原廠新設(shè)備相比存在優(yōu)勢(shì)。

3.二手設(shè)備所處的技術(shù)段的生產(chǎn)工藝技術(shù)及材料支撐技術(shù)已經(jīng)過(guò)主流微電子產(chǎn)品的生產(chǎn)階段，發(fā)展得非常成熟。

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前端設(shè)備（包括外延反應(yīng)器，垂直擴(kuò)散爐，PECVD反應(yīng)器，集束型設(shè)備，原子層沉積設(shè)備，等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）設(shè)備），后端設(shè)備（包括芯片焊接設(shè)備，焊線機(jī)，切筋/成型設(shè)備，封裝模具，自動(dòng)化裝配和測(cè)試設(shè)備）、光刻機(jī)（沉浸式光刻機(jī)、極紫外線光刻機(jī)（EUV））、原子層沉積（ALD）設(shè)備，化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備，電化學(xué)沉積（ECD）設(shè)備，物相沉積（PVD設(shè)備），刻蝕機(jī)，快速熱處理設(shè)備，涂布顯影機(jī)，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP），表面處理（SP）設(shè)備，計(jì)量和晶圓檢測(cè)設(shè)備，掩膜板制造設(shè)備、熱處理成膜設(shè)備，等離子刻蝕機(jī)，單晶圓沉積設(shè)備，晶圓測(cè)試設(shè)備，涂膠機(jī)/顯影機(jī)、前段和后端缺陷檢測(cè)設(shè)備（晶圓檢測(cè)設(shè)備，掩膜板檢測(cè)設(shè)備，元器件檢測(cè)設(shè)備），金屬刻蝕設(shè)備，電介質(zhì)刻蝕設(shè)備，三維集成電路刻蝕設(shè)備，MEMS刻蝕設(shè)備，深硅刻蝕設(shè)備，晶圓清洗設(shè)備，薄膜沉積設(shè)備（包括PECVD、HDPCVD、MCVD、ECD、PVD設(shè)備），針對(duì)薄膜沉積后處理的UVTP設(shè)備，光致抗蝕設(shè)備、晶圓清洗設(shè)備（包括濕式洗滌設(shè)備，旋轉(zhuǎn)處理器，凈氣器，CMP后清洗設(shè)備，聚合物移除設(shè)備），退火設(shè)備（包括快閃燈照退火爐，紅外燈退火爐），晶圓檢測(cè)和測(cè)量設(shè)備（如光譜薄膜厚度測(cè)量設(shè)備等），先進(jìn)封裝的直接成像設(shè)備、系統(tǒng)級(jí)芯片測(cè)試設(shè)備，記憶體測(cè)試設(shè)備，動(dòng)態(tài)測(cè)試設(shè)備、三維封裝等用高精度光刻機(jī)，以及光掩膜設(shè)備、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、噴霧涂膠機(jī)、雙面測(cè)試設(shè)備、濕法工藝設(shè)備（如金屬剝離、顯影、清洗、去膠設(shè)備）、球焊機(jī)，粘片機(jī)，焊線機(jī)，螺栓保險(xiǎn)杠，楔焊機(jī)等。

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