檢漏儀保養科創真空進口檢漏儀公司

氦質譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇

氦質譜檢漏儀廠家的氦質譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇一般應從以下幾方面考慮：

(1)無害，不能對人體或環境造成傷害;

(2)質量輕，惰性氣體，穿透能力強，能穿透微小細縫;

(3)化學性質穩定，不會引起化學反應和易1燃易1爆;

(4)在空氣環境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體，滿足檢漏靈敏度方面的要求，減少本底干擾檢測的準確性。

氫和氦都是比較理想的示蹤氣體，空氣中的含量少，質量輕，運動速度快，分子直徑小，同等條件下，直線運動距離長。在實際使用中，也相對比較容易獲取，可以大量使用。由于He具有無色、無臭、無活性、不可燃的特性，因此一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體，但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的，考慮到它的化學性質及危險性，在應用中較少使用，所以實際大部分檢漏使用的都是氦氣。

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氦質譜檢漏儀的主要及時指標

北京科創鼎新真空技術有限公司（簡稱：科創真空）是從事真空系統設計、制造及真空技術服務的化公司。公司致力于真空氦檢漏設備、非標真空系統設計開發與制造。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示的范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動時間：≤5min

4. 響應時間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環境：5-35℃

8. 相對濕度：≤80

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

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氦質譜檢漏儀的基本原理及主要組成部分

氦質譜檢漏儀的性能、特性好壞取決于質譜分析室。質譜分析室的工作原理是對離子源氣體進行電離，電離出來的正離子經過電場加速聚焦通過縫隙進入均勻磁場，離子束在磁場力的作用下，旋轉180o或90o按一定軌跡到達收集極，此種形式稱之為磁性偏轉分析形式。然后，經小電流放大器、微處理器，控制器等線路處理直至液晶屏顯示出讀數的大小1。

三．氦質譜檢漏儀在壓力容器中的常用方法

在壓力容器中，使用氦質譜檢漏儀檢漏常用的方法大體可分為三種，即噴氦法（負壓法），吸槍法（正壓法），氦罩法。就幾種方法的靈敏度比較而言，噴氦法的靈敏度高些。但是當檢漏儀安裝在大型的、比較復雜的壓力容器裝置上時，也不敢確切地說噴氦法的靈敏度就是高。