影響真空絕緣水平的主要因素

空隙間隔

真空的擊穿電壓與空隙間隔有著比較清晰的關系。試驗標明，當空隙間隔較小時，擊穿電壓跟著空隙間隔的添加而線性添加，但跟著空隙間隔的進一步添加，擊穿電壓的添加減緩，即真空空隙發作擊穿的電場強度跟著空隙間隔的添加而減小。當空隙到達一定的長度后，單靠添加空隙間隔進步耐壓水平已經好不容易，這時選用多斷口反而比單斷口有利。

一般以為短空隙下的穿主要是場致發射引起的，而長空隙下的的穿則主要是微粒效應所致。

真空腔體

流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

真空腔體

超高真空技術應用廣泛，從現有的光學傳感器、光刻機、低溫恒溫器、電子顯微鏡和XPS光譜儀，到基于冷原子的便攜式傳感器、MEMS真空檢測儀器、真空電子束智能增材制造系統等新興領域。增材制造可大幅減少設備尺寸、重量和開發時間，從而加速基礎研究和技術開發。通過激光粉床打印機制造一個利用磁光阱MOT捕獲冷原子的小型超高真空腔體，由鋁合金AlSi10Mg制造。該系統經歷120小時的120℃烘烤后，達到了低于1×10-10mbar的壓力范圍。裝置對獲的原子云進行熒光圖像，包含多達2×108個銣原子。增材制造的腔體的真空度優于5.0×10-9mbar，與常見的磁光阱真空腔體性能一致，見圖1。這表明了增材工藝與超高真空腔體制造的適用性。