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Anric原子層沉積系統,AT-410AtomicLayerDepositionSystem

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產品價格: 100.00/人民幣 
最后更新: 2023-10-31 09:05:19
產品產地: 湖北武漢
發貨地: 湖北武漢 (發貨期:當天內發貨)
供應數量: 不限
有效期: 長期有效
最少起訂: 1
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  • 公司基本資料信息
    • 武漢邁可諾科技有限公司
    • 趙經理先生 銷售經理
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    • 手機18221354817
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    • 地址武珞路628號亞洲貿易廣場
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    產品詳細說明
    產品參數
    品牌美國Anric
    前級泵10L/min
    加熱方式普通標準加熱
    外形尺寸桌面式
    外包材質紙盒
    基準溫度25℃
    漏率小于1.0E-8Pa.m3/s
    發貨地武漢
    產地美國(原裝進口)
    起訂量1套起批
    可售賣地全國
    型號AT-410

    概括

    原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的,這種方式使每次反應只沉積一層原子。



    應用領域

    原子層沉積技術由于其沉積參數的高度可控型(厚度,成份和結構),優異的沉積均勻性和*性使得其在微納電子和納米材料等領域具有廣泛的應用潛力。該技術應用的主要領域包括:

    1)?晶體管柵極介電層(high-k)和金屬柵電極(metal gate)

    2)?微電子機械系統(MEMS)

    3)?光電子材料和器件

    4)?集成電路互連線擴散阻擋層

    5)?平板顯示器(有機光發射二極管材料,OLED)

    6)?互連線勢壘層

    7)?互連線銅電鍍沉積籽晶層(Seed layer)

    8)?DRAM、MRAM介電層

    9)?嵌入式電容

    10)?電磁記錄磁頭

    11)?各類薄膜 lt;100nm)


    技術參數:

    基片尺寸:4英寸、6英寸;

    加熱溫度:25℃~350℃;

    溫度均勻性:±1℃;

    前體溫度范圍:從室溫至150℃,±2℃;可選擇加熱套;

    前驅體數:一次同時可處理多達?5?個?ALD?前體源;

    PLC?控制系統:7英寸16?位彩色觸摸屏HMI控制;

    模擬壓力控制器:用于快速壓力檢測和脈沖監測

    樣品上載:將樣品夾具從邊上拉出即可;

    壓力控制裝置:壓力控制范圍從0.1~1.5Torr

    兩個氧化劑/還原劑源,如水,氧氣或氨氣;

    在樣品上沒有大氣污染物,因為在沉積區的附近或上游處無?Elestamor O?型圈出現;

    氧化鋁催化劑處理能力:6-10?次/分鐘或高達?1.2?納米/?分鐘(同類zui佳)

    高縱橫比沉積,具有良好的共形性

    曝光控制,用于在?3D?結構上實現所需的共形性;

    預置有經驗證過的?3D?和?2D?沉積的優化配方;

    簡單便捷的系統維護及安全聯鎖;

    目前市面上占地zui小,可兼容各類潔凈室要求的系統;

    可以為非標準樣品而訂制的夾具,如?SEM / TEM?短截線


    原子層沉積ALD的應用包括:

    1) High-K介電材料?(Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3);

    2)導電門電極?(Ir, Pt, Ru, TiN);

    3)金屬互聯結構?(Cu, WN, TaN,Ru, Ir);

    4)催化材料?(Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5);

    5)納米結構?(All ALD Material);

    6)生物醫學涂層?(TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN);

    7) ALD金屬?(Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni);

    8)壓電層?(ZnO, AlN, ZnS);

    9)透明電學導體?(ZnO:Al, ITO);

    10)紫外阻擋層?(ZnO, TiO2);

    11) OLED鈍化層?(Al2O3);

    12)光子晶體?(ZnO, ZnS:Mn, TiO2, Ta3N5);

    13)防反射濾光片?(Al2O3, ZnS, SnO2, Ta2O5);

    14)電致發光器件?(SrS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Tb, SrS:Ce);

    15)工藝層如蝕刻柵欄、離子擴散柵欄等?(Al2O3, ZrO2);

    16)光學應用如太陽能電池、激光器、光學涂層、納米光子等?(AlTiO, SnO2, ZnO);

    17)傳感器?(SnO2, Ta2O5);

    18)磨損潤滑劑、腐蝕阻擋層?(Al2O3, ZrO2, WS2);


    目前可以沉積的材料包括:

    1)氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2

    2)氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ?

    3)氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2,

    4)金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ?

    5)碳化物: TiC, NbC, TaC, ?

    6)復合結構材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ?

    7)硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS,




    邁可諾技術有限公司

    客服熱線:4008800298

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