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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 品牌 | Laurell | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進口 | 是 | ||
| 操作方式 | 智能程控 | ||
| 轉(zhuǎn)速范圍 | 0-12000rpm | ||
| 加速度范圍 | 0-12000rpm | ||
| 工藝時間 | 1-5999.9 sec/step | ||
| 存儲程序 | 20條 | ||
| 程序步驟 | 51步 | ||
| 轉(zhuǎn)速分辨率 | 1rpm | ||
| 處理基片尺寸 | 10-150mm | ||
| 腔體材質(zhì) | NPP聚丙烯 | ||
| 試劑種類 | 可選配至5種 | ||
| 標準配置 | 帶有樣品清洗，氮氣吹掃 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | EDC-650Hz-23NPPB | ||
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一、產(chǎn)品概述：
????650型勻膠顯影機適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。
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二、勻膠顯影機工作原理：
顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等最后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。
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三、勻膠顯影機主要性能指標：
1、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；
2、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片；
3、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；
3、轉(zhuǎn)動速度：0-3,000rpm；
5、馬達旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1；
6、工藝時間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
7、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點精度小于0.006；
8、程序控制：可存儲20個程序段，每個程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài)；
9、分辨率：分辨率不超過1轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性不超過1轉(zhuǎn)/分，美國國家標準技術(shù)研究院（NIST）認證過的，并且無需再校準！
10、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實時進行可視化操作；
11、腔體材質(zhì)說明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體；
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四、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）
光刻膠顯影（KrF/ArF）
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光罩去膠清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
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邁可諾技術(shù)有限公司
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