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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 品牌 | 河南 | ||
| 產(chǎn)品特性 | 氧化鋁 | ||
| 是否進口 | 否 | ||
| 產(chǎn)地 | 河南 | ||
| 種類 | 平板狀氧化鋁 | ||
| 規(guī)格 | CA09.12.20.30.40.50 | ||
| 粒度 | CA09.12.20.30.40.50目 | ||
| 適用范圍 | 研磨拋光 | ||
| 氧化鋁 | 99.0min | ||
| 顏色 | 白色 | ||
| 密度 | 3.9 | ||
| 樣品 | 500G免費氧化鋁 | ||
| 包裝 | 20公斤/箱 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 用途 | 研磨拋光 | ||
| 材質 | 平板狀氧化鋁 | ||
| 型號 | ca09.12.20.30.40.50 | ||
研磨拋光用平板狀氧化鋁
平板狀氧化鋁拋光粉是以 工業(yè)氧化鋁粉為原料，采用特殊生產(chǎn)工藝處理，生產(chǎn)出來的氧化鋁拋光粉晶體形狀呈六角平板狀，因而稱之為平板狀氧化鋁或片狀氧化鋁。
平板狀氧化鋁的氧化鋁純度 以上，具有耐熱， 腐蝕，硬度高的特點。與傳統(tǒng)磨料球形顆粒不同，平板狀氧化鋁的底面平整，研磨時顆粒貼合工件表面，產(chǎn)生滑動的研磨效果，避免了顆粒尖角對工件表面的劃傷，另一方面，平板狀氧化鋁進行研磨時，研磨壓力是均勻分布在顆粒表面，顆粒不易破碎， 性能提高，從而提高了研磨效率和表面光潔度。
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對于半導體材料如半導體硅片，平板狀氧化鋁的應用，可以減少磨削時間，大幅提高研磨效率，減少磨片機的損耗，節(jié)省人工和磨削 ，提高磨削合格率。品質接近國外 品牌。
顯像管玻殼磨削工效提高3-5倍；
合格品率提高10-15，半導體硅片合格品率達到 以上；
研磨消耗量比普通氧化鋁拋光粉減少40-40；
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化學成分：（研磨拋光用平板狀氧化鋁）
Al2O3 | ≥99.0 |
SiO2 | ＜0.2 |
Fe2O3 | ＜0.1 |
Na2O | ＜1 |
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物理性能：（研磨拋光用平板狀氧化鋁）
化學成分 | α-Al2O3 |
顏色 | 白色 |
比重 | ≥3.9g/cm3 |
莫氏硬度 | 9.0 |
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生產(chǎn)規(guī)格：（研磨拋光用平板狀氧化鋁）
型號 | D3(um) | D50（um） | D94（um） |
CA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
CA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
CA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
CA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
CA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
CA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
CA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
CA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
CA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
CA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
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產(chǎn)品應用范圍：（研磨拋光用平板狀氧化鋁）
??? 1）電子行業(yè) ： 半導體單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體（砷化鎵、磷化銦）的研磨拋光。
??? 2）玻璃行業(yè) ： 水晶，石英玻璃，顯象管玻殼屏，光學玻璃，液晶顯示器（LCD）玻璃基板，壓電石英晶體的研磨加工。
??? 3）涂附行業(yè) ： 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
??? 4）金屬和陶瓷加工業(yè) 陶瓷材料，燒結陶瓷原料， 高溫涂料等
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