MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)
是生長高質量半導體薄膜材料的
技術，在LED、半導體激光器、太陽能電池等多個領域都有應用。現有MOCVD設備
的成本非常高，且完全依賴進口，進行MOCVD設備研究對國內半導體產業、新能源
領域以及國防高端技術的發展都很有必要。
MOCVD設備可以分為核心的腔體反應室、加熱器、冷卻系統、氣體輸運系統以
及整體控制系統。本文重點研究了氣體輸運系統的設計，包括結構組成和部分控制難
點，并對該系統今后的發展陳述了自己的觀點。
氣體輸運系統的作用是把包括載氣和源氣在內的所有氣體輸送至腔體參與反應，
并把反應后的氣體輸送至排氣管路進行尾氣處理。氣體輸運包括源供給系統，
反應室內多余的氣體帶入尾氣處理系統。由于腔體內管路很復雜，而且避免MO源的壁面沉積
)對氣體流經的關鍵管路持續吹掃?；诎踩紤]，設備需
要定期進行泄漏檢查。
由于MOCVD系統中所采用的大多數源均易燃易爆，雨其中的氫化物源又有劇毒，因此，必須對反應過后的尾氣進行處理。通常采用的處理方式是將尾氣先通過微粒過濾器去除其中的微粒
