制造業(yè)用超純水，集成電路板生產(chǎn)清洗用超純水，蓄電池、鋰電池、太陽(yáng)能電池、干電池等生產(chǎn)用水。
工藝流程一：反滲透+混床

工藝流程二：反滲透+EDI設(shè)備

 1.電子工業(yè)超純水概述
    半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模

、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，

對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、

10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：
　　 1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→

活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→

用水點(diǎn)
　　 2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水

→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→

后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
　　 3、采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的

最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過(guò)濾器→

活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器

→用水點(diǎn)