1200℃單溫區(qū)真空管式氣相沉積爐

 CNT真空管式氣相沉積爐主要應(yīng)用在半導(dǎo)體,石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。
※產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：   

1、可通入多種氣體，配100ml混氣罐;

2、爐體采用不銹鋼密封法蘭（鉸鏈結(jié)構(gòu)），耐高溫、耐腐蝕；
3、保護(hù)管采用高純石英管 ，氣管采用卡套或VCR接口，安裝方便；

5、爐體采用雙層空氣隔熱技術(shù)，配有自動(dòng)冷卻風(fēng)扇，降低爐體外殼溫度；

6、控制系統(tǒng)采用進(jìn)口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發(fā)、可控硅控制；

7、真空系統(tǒng)6.67pa(機(jī)械泵)或6.67pa×10-3pa(擴(kuò)散泵機(jī)組)

8、選配無(wú)紙記錄儀，記錄、存儲(chǔ)、顯示當(dāng)前或歷史溫度曲線，也可通過(guò)U盤(pán)轉(zhuǎn)存入電腦。

8、選配西尼特智能溫控軟件，通過(guò)電腦進(jìn)行全程監(jiān)控和操作；