lpcvd氣相沉積設備的供貨商

產品價格：	120000/人民幣
最后更新：	2015-04-25 10:22:07
產品產地：	青島
發貨地：	青島 (發貨期：當天內發貨)
供應數量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
瀏覽次數：	68

公司基本資料信息

青島福潤德微電子設備有限公司
岳曉茜小姐業務員
會員[試用會員產品]
郵件896337158@qq.com
手機15314229122
電話
傳真
地址青島市城陽區北萬工業園6號

產品詳細說明

LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數大，故可采用密集裝片方式來提高生產率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應用于半導體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業的生產工藝中。

■ 主要技術指標

◆ 適用硅片尺寸：4~6 "                                 ◆ 工作溫度范圍：350~1000℃

◆ 恒溫長度及精度：760mm±1℃                         ◆ 溫度梯度：0~30℃可調

◆ 系統極限真空度：0.8 Pa                              ◆ 工作壓力范圍：30Pa~133Pa可調

◆ 淀積膜種類：Si3N4 片內＜±3% 片間＜±3% 批間＜±4%

◆ 淀積膜均勻性：Poiy-Si 片內＜±3% 片間＜±3% 批間＜±4%

◆ 淀積膜均勻性：SiO2 片內＜±3%

在線詢盤/留言 請仔細填寫準確及時的聯系到你!

您的姓名：	您的姓名沒有寫*	預計需求數量：	* 請輸入整數請填寫數量
聯系手機：	*請填寫你的手機號碼	移動電話或傳真：
電子郵件：	*郵箱格式不正確請填寫你的電子郵件	所在單位：
咨詢內容：	我想了解：《lpcvd氣相沉積設備的供貨商》的詳細信息.請商家盡快與我聯系。 * 請填相關內容

更多..本企業其它產品