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曝光時間的降低
制程制作的TFT基板,需要重復五次曝光制程,完成整個曝光動作的總時間越短,越能有效地增加儀器使用率,亦即,可以降低生產周期,提高產出,而掩模的更換和移動,都會花費一些時間,如何設計出tact time較短的曝光制程,也是在面板接合掩模設計時要考慮的課題之一。
基板上面板放置與其掩模接合設計
一片TFT基板上會有許多個面板,還要考慮基板周邊無法使用的區域,以及對齊切割線的位置,而將面板有規律地安排在基板上,另外,還要計入所述的對準標示和測試鍵等。因此在掩模設計時,除了要考慮一個面板的接合方式以外,還要整體計算面板圖形在基板上的確實曝光位置,并把所需要的所有圖形都納入掩模中,設定其對應的曝光位置,更增加了掩模接合設計的復雜度。
以上信息由tft彩色屏幕提供,希望對您有所幫助。
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